Institute of Nanotechnology (NANOTEC)

Partnerships

Commessa : "PLASMI PER LA SCIENZA DEI MATERIALI"

--Dept. of Electronic Engineering, Duke University, Durham, NC, USA - Prof. A. Brown
Reazioni di scambio anionico V-V per sistemi MQWs e SLs a base di semiconduttori III-V. Crescita di GaN e InN con processi Plasma assisted-MBE. Studio di sistemi plasmonici con spettroscopia ellissometrica.

--Dept. of Computer Electronic Engeneering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, USA, Prof. W.A. Doolittle
Processi superficiali nella crescita di film di GaN: interazione plasma-superficie.

--Dept. of Chemistry of University of North Carolina, Chapel Hill, NC, USA - Prof- E.A. Irene
Caratterizzazione con spettroscopia ellissometrica di processi e materiali; (polimeri semiconduttori)

--CIEMAT, Spagna, Dr. J. Carabe
Deposizione via PECVD di Silicio amorfo e microcristallino per applicazioni fotovoltaiche

--Romanian Academy- Institute of Physical Chemistry- Bucharest, Romania, Mariuca Gartner (Head of Department of Surface chemistry and Catalysis),
Metodologie di caratterizzazione ellissometrica di ossidi

--Departamento de Fisica-Universidade do Minho, Braga-Portugal, Fatima M. Cerqueira (Head of Physics Department)
Caratterizzazione microstrutturale e composizionale di film di silicio micro- e nanocristallino codrogati con ossigeno ed erbio.

--Dip. Di Chimica-Università di Padova, Prof. E. Tondello
Deposizione Plasmochimica di film nanostrutturati di ossidi

--Dip. Di Chimica -Università di Catania, Prof. I.L. Fragalà, Dr G. Malandrino
Deposizione/caratterizzazione di film nanostrutturati di ossidi con "nuovi" precursori metallorganici.

--IFN-CNR, Roma - Dr. G. Fortunato
"Cristallizzazione laser di film di silicio depositati via plasma per applicazioni "Large Area Electronics"

--ISTM-CNR Padova, Dr. L. Armelao, Dr. D. Barreca.
Deposizione e caratterizzazione di sistemi nanostrutturati e mesoporosi per applicazioni in "Fuel cells"

--ENEA-Centro di Ricerca Portici, Napoli - Dr. F. Roca
Realizzazione di Eterostrutture c-Si/a-Si/ITO per dispositivi fotovoltaci.

--Laboratoire de Genie des Procedes Plasmas et Traitement de Surfaces, Paris (Francia), Prof. F. Arefi-Khonsari
"Processi via plasma per applicazioni industriali basati su tecniche di Atmospheric Glow Discharge"

--ITM-CNR Arcavacata di Rende (Italia), Prof. E. Drioli
Modificazione via plasma di membrane polimeriche ad attività catalitica o biologica

--Dipartimento di Ingegneria dei Materiali/politecnico di Torino (ITALIA), Prof. E. Angelini
Processi di deposizione via plasma di film sottili per la protezione di metalli

--CEA (Commisariat a l' Energie Atomique) Grenoble (Francia), Dr. Steve Martin
Multistrati per applicazione nel campo dei rivestimenti ultra-barriera per optoelettronica

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Commessa "DINAMICA DI PROCESSI ATOMICI E MOLECOLARI"

CNR-IPCF-Pisa : Studi di processi di decadimento Auger

Ioffe Institute St. Petersburg and State University of Aerospace Instrumentation St. Petersburg
and Institute of Electron Physics Uzghorod (Uk) : INTAS project

CNR-ISM-Roma : Progetti SPARC e SPARX & Attività con luce di sincrotrone a Elettra
Sincrotrone Trieste e TASC-INFM: Gestione Gas Phase Photoemission Beamline

Phys. Dept Uni-Stoccolma, ; Phys. Dept. Uni-Oulu Dept. Uni-Perth ,Phys. Dept. Uni-Manchester : Progetto beamlime ULISSE per Fermi@Elettra e attività di luce di Sincrotrone

Dip. Chimica Perugia, Dip. Chimica Bari, Dip. Fisica Trento : Processi elementari,
Progetti FIRB, FISR, Chemiadsorbimento

CNRS-LCAM-Paris Sud; CNRS-LIXAM Paris e MPI-Fritz Haber Institüt Berlino:
Attività congiunta con radiazione di sincrotrone

CNRS-PROMES: proprietà catalitiche di materiali per TPS, dottorato di co-tutelle

Troitsk Institute of Innovation and Fusion Research- Mosca :
Dinamica collisionale di molecole energeticamente eccitate.

CASPUR-Roma: Calcoli ab inizio su specie chemiadsorbite

CNR-IFN-Trento: Sviluppo di sorgenti di plasma per fasci molecolari, Dinamica di collisioni molecola-superfici


Institute of plasma Physics ( AVCR) Prague: Studio dei meccanismi chimico fisici nelle scariche barriera di superficie e di volume

Dip. Fisica Università di Trento: Sviluppo di scariche barriera per H2 reforming

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Commessa "DINAMICA DI PLASMI E LASER-PLASMI"


Laboratoire d'Ingénierie des Matériaux et des Hautes Pressions (LIMHP) CNRS-Parigi : plasmi idrogeno, processi

Institute of High Temperature -Mosca : processi elementari

Institute for problemns in mechanics - Mosca : aerospazio - radiazione

Advanced Study Institute di Oslo: onde d'urto

IPP (Institute of Plasma Physics) Greifswald (GE) - :Sorgenti di ioni negativi

C.I.R.A. : aerospazio

ALTA : aerospazio

Politecnico di Torino : aerospazio fluidodinamica

Università di Bologna - Facoltà Ingegneria Dip. Ingegneria Elettrica : aerospazio magnetoidrodinamica