Deposizione tramite sputtering film amorfi di GaN (DFM.AD001.297)
Thematic area
Physical sciences and technologies of matter
Project area
Sensori multifunzionali e dispositivi elettronici (DFM.AD001)Structure responsible for the research project
Institute for microelectronics and microsystems (IMM)
Project manager
FABIO DI PIETRANTONIO
Phone number: 0645488736
Email: fabio.dp@artov.imm.cnr.it
Abstract
Deposizione di film di GaN amorfo mediante RF magnetron sputtering. Saranno prodotti almeno 20 campioni con parametri di deposizione diversi. Questi saranno caratterizzati utilizzando diverse tecniche da EGO. Saranno investigati la morfologia, la struttura cristallina o non cristallina e la rugosità.
Goals
deposizione di film amorfi a bassa rugosità per applicazioni ottiche
Start date of activity
01/07/2020
Keywords
Sputtering, GaN, Amorfo
Last update: 07/08/2025