CORSO DI TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD Tecniche di deposizione e di caratterizzazione, applicazioni industriali e prospettive di ricerca
Dal 27/05/2014 ore 09.00 al 28/05/2014 ore 17.30
Aviospace
http://www.aviospace.com/
Via Pier Carlo Boggio 59/61
10138 Turin, Italy
Tel: +39 011 0867 100
FINALITA’ DEL CORSO
Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI deposizione PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca. Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.
Organizzato da:
AIV-Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia
COORDINATORI DEL CORSO
Monica Ferraris - Politecnico di Torino
Alberto Tagliaferro - Politecnico di Torino
Espedito Vassallo - Istituto di Fisica del Plasma - CNR
Referente organizzativo:
michele fincato
IGI-CNR
corso Stati Uniti 4 35020 Padova
michele.fincato@igi.cnr.it
3935675775
SEGRETERIA ORGANIZZATIVA
Per ulteriori informazioni contattare:
A. Riggio, E-mail: segreteria@aiv.it Tel.: 02 66173238
Modalità di accesso: a pagamento
http://www.aiv.it/corsi/corso-di-tecnologie-di-deposizione-pvd-e-cvd/
http://www.aiv.it/Iscrizione-Corso-PVD-CVD-AIV.html
Vedi anche: