ECFISI - Effetti chimico-fisici ed analisi spettroscopica e strutturale di sistemi a base di silicio (DFM.AD005.251)
Area tematica
Scienze fisiche e tecnologie della materia
Area progettuale
Fotonica: dai processi fisici ai componenti e sistemi e relative applicazioni (DFM.AD005)Struttura responsabile del progetto di ricerca
Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN)
Responsabile di progetto
MAURIZIO FERRARI
Telefono: 0461314918
E-mail: maurizio.ferrari@ifn.cnr.it
Abstract
La produzione di silicio si basa su specifiche proprietà fisico-chimiche e richiede accurate misure per la valutazione del prodotto. In questo progetto saranno sviluppate tecniche di analisi spettroscopica, ottica e strutturale per chiarire alcuni meccanismi di crescita inerenti ai processi di fabbricazione.
Obiettivi
L'obiettivo principale da raggiungere riguarda la comprensione dei meccanismi chimico-fisici specifici alla crescita dei cristalli di silicio in diverse condizioni. Nella fattispecie si investigherà l'effetto sulla struttura del cristallo dovuto alle interazioni tra elementi esterni e silicio fuso.
Data inizio attività
12/09/2018
Parole chiave
Silicio, Cristallo, Struttura
Ultimo aggiornamento: 09/05/2025