Progetto di ricerca

ECFISI - Effetti chimico-fisici ed analisi spettroscopica e strutturale di sistemi a base di silicio (DFM.AD005.251)

Area tematica

Scienze fisiche e tecnologie della materia

Area progettuale

Fotonica: dai processi fisici ai componenti e sistemi e relative applicazioni (DFM.AD005)

Struttura responsabile del progetto di ricerca

Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN)

Responsabile di progetto

MAURIZIO FERRARI
Telefono: 0461314918
E-mail: maurizio.ferrari@ifn.cnr.it

Abstract

La produzione di silicio si basa su specifiche proprietà fisico-chimiche e richiede accurate misure per la valutazione del prodotto. In questo progetto saranno sviluppate tecniche di analisi spettroscopica, ottica e strutturale per chiarire alcuni meccanismi di crescita inerenti ai processi di fabbricazione.

Obiettivi

L'obiettivo principale da raggiungere riguarda la comprensione dei meccanismi chimico-fisici specifici alla crescita dei cristalli di silicio in diverse condizioni. Nella fattispecie si investigherà l'effetto sulla struttura del cristallo dovuto alle interazioni tra elementi esterni e silicio fuso.

Data inizio attività

12/09/2018

Parole chiave

Silicio, Cristallo, Struttura

Ultimo aggiornamento: 28/04/2025