Progetto di ricerca

Progetto OPTOFER_Tecnologie optoelettroniche innovative per il monitoraggio e la diagnostica dell'infrastruttura ferroviaria (DFM.AD001.111)

Area tematica

Scienze fisiche e tecnologie della materia

Area progettuale

Sensori multifunzionali e dispositivi elettronici (DFM.AD001)

Struttura responsabile del progetto di ricerca

Istituto per la microelettronica e microsistemi (IMM)

Responsabile di progetto

EMANUELA ESPOSITO
Telefono: 0816132639
E-mail: emanuela.esposito@cnr.it

Abstract

Una parte di questo progetto è rivolta allo studio dettagliato sulle possibili configurazioni di sensori in fibra ottica per la misura di radiazioni finalizzato al controllo sul traffico di materiale radioattivo.
Particolare attenzione è stata rivolta all'utilizzo della tecnologia "Lab on Fiber" che coinvolge l'integrazione di materiali e strutture micro e nano-lavorate all'interno della fibra ottica.
In particolare il lab di nano-litografia del IMM-NA ha collaborato a questo progetto attraverso una commessa esterna per la realizzazione di tali sensori utilizzando un processo di nano-fabbricazione sviluppato ad-hoc per trasferire nano-strutture in maniera precisa direttamente su punta di fibre ottiche.

Obiettivi

Per la realizzazione di ogni prototipo di sensore sono necessari tre passi fondamentali, che, nello specifico, sono:
- Deposizione di dielettrico sensibile alle radiazioni sulla superficie piatta del nucleo della fibra: la deposizione avviene attraverso uno spin coating modificato; a valle di questa procedura, la punta della fibra ottica che si vuol sensorizzare, avrà uno strato di dielettrico depositato in modo omogeneo;
- Creazione e sviluppo del patterning: utilizzando la tecnica EBL (Litografia a fascio Elettronico), un fascio elettronico focalizzato viene fatto incidere sul substrato elettrosensibile. In questo modo, a valle del successivo sviluppo il substrato dielettrico non sarà più omogeneo ma seguirà il nano pattern imposto dall'EBL;
- Deposizione di un superstrato metallico: una volta creato il pattern nel substrato dielettrico, la deposizione di uno strato metallico potrà essere effettuata per evaporazione

Data inizio attività

01/01/2016

Parole chiave

Sensori in fibra ottica, plasmonica, nano fabbricazione

Ultimo aggiornamento: 13/10/2024