Thin Film Deposition by Dielectric Barrier Discharges: Limitations and Opportunities (Comunicazione a convegno)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Comunicazione a convegno (Classe)

Label

• Thin Film Deposition by Dielectric Barrier Discharges: Limitations and Opportunities (Comunicazione a convegno) (literal)

Anno

• 2014-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• Fiorenza Fanelli (2014)
  Thin Film Deposition by Dielectric Barrier Discharges: Limitations and Opportunities
  in Gordon Research Conference - Plasma Processing Science, Smithfield, USA, 27 luglio - 1 agosto 2014
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Fiorenza Fanelli (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• IMIP-CNR, Bari, Italy (literal)

Titolo

• Thin Film Deposition by Dielectric Barrier Discharges: Limitations and Opportunities (literal)

Prodotto di

• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)

Autore CNR

• FIORENZA FANELLI (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR di

• FIORENZA FANELLI (Unità di personale interno)