Effect of He-dilution on hydrofluorinated silicon films from SiF4-H2 plasmas (Contributo in atti di convegno)

Type
Label
  • Effect of He-dilution on hydrofluorinated silicon films from SiF4-H2 plasmas (Contributo in atti di convegno) (literal)
Anno
  • 1997-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • G. Cicala1, P. Capezzuto2, G. Bruno1 (1997)
    Effect of He-dilution on hydrofluorinated silicon films from SiF4-H2 plasmas
    in 14th European Photovoltaic Solar Energy Conference, Barcellona (Spagna), 30June-4July 1997
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • G. Cicala1, P. Capezzuto2, G. Bruno1 (literal)
Pagina inizio
  • 656 (literal)
Pagina fine
  • 659 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#titoloVolume
  • 14th European Photovoltaic Solar Energy Conference (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume
  • I (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#volumeInCollana
  • I (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali
  • 4 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
  • 1Centro di Studio per la Chimica dei Plasmi, C.N.R. Via Orabona 4, 70126, Bari-Italy 2Dipartimento di Chimica Università di Bari Via Orabona 4, 70126, Bari-Italy (literal)
Titolo
  • Effect of He-dilution on hydrofluorinated silicon films from SiF4-H2 plasmas (literal)
Abstract
  • Amorphous to nanocrystalline transition is observed in the deposition of silicon films fiom SiF4-H2-He plasmas. The He-dilution favours the formation of nanocrystalline phase and affects the growth kinetics. Optical emission spectroscopy (OES) has revealed as a good diagnostics to fingerprint the process. (literal)
Prodotto di
Autore CNR
Insieme di parole chiave

Incoming links:


Prodotto
Autore CNR di
Insieme di parole chiave di
data.CNR.it