Initial growth stages of CeO2 nanosystems by Plasma-Enhanced chemical vapor deposition (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Initial growth stages of CeO2 nanosystems by Plasma-Enhanced chemical vapor deposition (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2003-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• D. Barreca,1 A. Gasparotto,1 E. Tondello,1 S. Polizzi,2 A. Benedetti,2 C. Sada,3 G. Bruno,4 M. Losurdo4 (2003)
  Initial growth stages of CeO2 nanosystems by Plasma-Enhanced chemical vapor deposition
  in Materials Research Society symposia proceedings
  (literal)

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• D. Barreca,1 A. Gasparotto,1 E. Tondello,1 S. Polizzi,2 A. Benedetti,2 C. Sada,3 G. Bruno,4 M. Losurdo4 (literal)

Pagina inizio

• EE9.10.1 (literal)

Pagina fine

• EE9.10.6 (literal)

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• rivista non-ISI (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 756 (literal)

Rivista

• Materials Research Society symposia proceedings (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#note

• Art. n. Ee9.10.1 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• 1: ISTM-CNR and CIMA Department, Padova University, Via Marzolo, 1 - 35131 Padova, Italy 2: Physical Chemistry Department, Ca' Foscari Venice University, Via Torino, 155/B - 30170 Venezia-Mestre, Italy 3: INFM and Physics Department, Padova University, Via Marzolo, 8 - 35131 Padova, Italy 4: IMIP-CNR, via Orabona, 4 - 70126 Bari, Italy (literal)

Titolo

• Initial growth stages of CeO2 nanosystems by Plasma-Enhanced chemical vapor deposition (literal)

Abstract

• Nanocrystalline CeO2 thin films were synthesized by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition using Ce(dpm)4 as precursor. Film growth was accomplished at 150-300°C either in Ar or in Ar-O2 plasmas on SiO2 and Si(100) with the aim of studying the effects of substrate temperature and O2 content on coating characteristics. Film microstructure as a function of the synthesis conditions was investigated by Glancing Incidence X-Ray Diffraction (GIXRD) and Transmission Electron Microscopy (TEM), while surface morphology was analyzed by Atomic Force Microscopy (AFM). Surface and in-depth chemical composition was studied by X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) and Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS). (literal)

Prodotto di

• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)
• Istituto di scienze e tecnologie molecolari (ISTM) (Istituto)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)

Autore CNR

• DAVIDE BARRECA (Persona)
• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di scienze e tecnologie molecolari (ISTM) (Istituto)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• DAVIDE BARRECA (Persona)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Materials Research Society symposia proceedings (Rivista)