\"Thermal decomposition of silicon-rich oxides deposited by the LPCVD method\" (Comunicazione a convegno)

Type
Label
  • \"Thermal decomposition of silicon-rich oxides deposited by the LPCVD method\" (Comunicazione a convegno) (literal)
Anno
  • 2011-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • D. Ristic, M. Ivanda, K. Furic, A. Chiasera, E. Moser, M. Ferrari (2011)
    "Thermal decomposition of silicon-rich oxides deposited by the LPCVD method"
    in MIPRO 2011 - 34th International Convention on Information and Communication Technology, Electronics and Microelectronics, Opatija, Croatia.
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • D. Ristic, M. Ivanda, K. Furic, A. Chiasera, E. Moser, M. Ferrari (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#descrizioneSinteticaDelProdotto
  • Silicon-rich oxide (SiOx, 0
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
  • Alessandro Chiasera, Maurizio Ferrari, Davor Ristic [CNR-IFN, Istituto di Fotonica e Nanotecnologie, CSMFO Laboratory via alla Cascata 56/C Povo, 38123 Trento, Italy] (literal)
Titolo
  • \"Thermal decomposition of silicon-rich oxides deposited by the LPCVD method\" (literal)
Prodotto di
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