Consiglio Nazionale delle Ricerche

Tipo di prodottoArticolo in rivista
TitoloElectrochemical etching in HF solution for silicon micromachining
Anno di pubblicazione2002
FormatoCartaceo
Autore/iG. Barillaro; A. Nannini; M. Piotto
Affiliazioni autoriDipartimento Ingegneria dell'Informazione, Università di Pisa, Italy Dipartimento Ingegneria dell'Informazione, Università di Pisa, Italy Centro di Studio per Metodi e Dispositivi per Radiotrasmissioni, CNR, Pisa, Italy
Autori CNR e affiliazioni
  • MASSIMO PIOTTO
Lingua/e
  • inglese
AbstractElectrochemical etching of silicon in hydrofluoric acid (HF) solution is employed as a micromachining technique. It is demonstrated that the commonly accepted geometric constraints on the shape of electrochemically etched silicon structures can be significantly relaxed. Several new structures etched on the same n-doped silicon wafer are reported. The fabricated structures include wall arrays, hole arrays, meander-shaped structures, spiral-like walls, microtubes, micropillars, microtips and more. A simple model for the electrochemical etch process, which describes the effect of the dimension of the initial seed, the current density, and also the KOH etching time of the initial pattern on the final geometries, is detailed.
Lingua abstractinglese
Altro abstract-
Lingua altro abstract-
Pagine da195
Pagine a201
Pagine totali-
RivistaSensors and actuators. A, Physical (Print)
Attiva dal 1990
Editore: Elsevier Sequoia - Lausanne
Paese di pubblicazione: Svizzera
Lingua: inglese
ISSN: 0924-4247
Titolo chiave: Sensors and actuators. A, Physical (Print)
Titolo proprio: Sensors and actuators. (Print)
Titolo abbreviato: Sens. actuators, A, Phys. (Print)
Titolo alternativo: Sensors and actuators A (Print)
Numero volume della rivista102
Fascicolo della rivista1-2
DOI10.1016/S0924-4247(02)00385-0
Verificato da refereeSì: Internazionale
Stato della pubblicazione-
Indicizzazione (in banche dati controllate)
  • ISI Web of Science (WOS) (Codice:000179478600025)
  • Scopus (Codice:2-s2.0-0036895571)
Parole chiaveMacroporous silicon, Silicon micromachining, Electrochemical etching, Pores formation
Link (URL, URI)-
Titolo parallelo-
Data di accettazione-
Note/Altre informazioni-
Strutture CNR
  • IEIIT — IEIIT - UOS di Pisa
Moduli CNR-
Progetti Europei-
Allegati
  • Electrochemical etching in HF solution for silicon micromachining

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Editore
  • Elsevier Sequoia, Lausanne (Svizzera)

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Rivista ISISENSORS AND ACTUATORS A-PHYSICAL [09261J0]