Consiglio Nazionale delle Ricerche

Tipo di prodottoArticolo in rivista
TitoloTechnology of integrable free-standing yttria-stabilized zirconia membranes
Anno di pubblicazione1999
FormatoCartaceo
Autore/iBruschi, P.; Diligenti, A.; Nannini, A.; Piotto, M
Affiliazioni autoriDipartimento Ingegneria dell'Informazione, Università di Pisa, Italy
Autori CNR e affiliazioni
  • MASSIMO PIOTTO
Lingua/e
  • inglese
AbstractFree-standing yttria-stabilized zirconium oxide membranes were fabricated by means of two different processes which are compatible with the standard complementary metal oxide semiconductor technology. The membrane is a thin film suspended on a pyramid-shape hole obtained on a silicon substrate by means of an anisotropic etching. A square membrane with a maximum side dimension of 170 mu m was obtained.
Lingua abstractinglese
Altro abstract-
Lingua altro abstract-
Pagine da251
Pagine a254
Pagine totali-
RivistaThin solid films (Print)
Attiva dal 1967
Editore: Elsevier Sequoia - Lausanne
Paese di pubblicazione: Svizzera
Lingua: multilingue
ISSN: 0040-6090
Titolo chiave: Thin solid films (Print)
Titolo proprio: Thin solid films. (Print)
Titolo abbreviato: Thin solid films (Print)
Numero volume della rivista346
Fascicolo della rivista1-2
DOI10.1016/S0040-6090(98)01758-1
Verificato da refereeSì: Internazionale
Stato della pubblicazione-
Indicizzazione (in banche dati controllate)
  • ISI Web of Science (WOS) (Codice:000081019400033)
  • Scopus (Codice:2-s2.0-0033149560)
Parole chiave-
Link (URL, URI)-
Titolo parallelo-
Data di accettazione-
Note/Altre informazioni-
Strutture CNR
  • IEIIT — IEIIT - UOS di Pisa
Moduli CNR-
Progetti Europei-
Allegati
  • Technology of integrable free-standing yttria-stabilized zirconia membranes

Dati associati a vecchie tipologie
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Editore
  • Elsevier Sequoia, Lausanne (Svizzera)