Consiglio Nazionale delle Ricerche

Tipo di prodottoArticolo in rivista
TitoloThree-dimensional Monte Carlo Simulations of electromigration in polycrystalline thin films
Anno di pubblicazione2000
FormatoCartaceo
Autore/iBruschi, P. ; Nannini, A.; Piotto, M.
Affiliazioni autoriDipartimento Ingegneria dell'Informazione, Università di Pisa, Italy
Autori CNR e affiliazioni
  • MASSIMO PIOTTO
Lingua/e
  • inglese
AbstractThe effects of electromigration in metal thin films is studied by means of atomistic Monte Carlo simulations. The simulator is based on a model of atom diffusion particularly suited to deal with polycrystalline three-dimensional films. Interatomic interactions are estimated by means of a simplified Morse potential while the driving force exerted by the charge carrier flux is represented as a perturbation on the diffusion activation barrier. The local current density is calculated using an equivalent resistor network. The results of simulated stress applied to various samples including a triple point are presented demonstrating the possibility of reproducing the initial stage of void formation with an atomistic model.
Lingua abstractinglese
Altro abstract-
Lingua altro abstract-
Pagine da299
Pagine a304
Pagine totali-
RivistaComputational materials science
Attiva dal 1992
Editore: Elsevier - Tokyo ;
Paese di pubblicazione: Paesi Bassi
Lingua: inglese
ISSN: 0927-0256
Titolo chiave: Computational materials science
Titolo abbreviato: Comput. mater. sci.
Numero volume della rivista17
Fascicolo della rivista2-4
DOI10.1016/S0927-0256(00)00041-0
Verificato da refereeSì: Internazionale
Stato della pubblicazione-
Indicizzazione (in banche dati controllate)
  • ISI Web of Science (WOS) (Codice:000088367300037)
  • Scopus (Codice:2-s2.0-0347874105)
Parole chiave-
Link (URL, URI)-
Titolo parallelo-
Data di accettazione-
Note/Altre informazioni-
Strutture CNR
  • IEIIT — IEIIT - UOS di Pisa
Moduli CNR-
Progetti Europei-
Allegati
  • Three-dimensional Monte Carlo Simulations of electromigration in polycrystalline thin films

Dati associati a vecchie tipologie
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Editore
  • Elsevier, Tokyo (Giappone)