| Tipo di prodotto | Articolo in rivista |
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| Titolo | Selective Doping of Silicon Nanowires by Means of Electron Beam Stimulated Oxide Etching |
| Anno di pubblicazione | 2012 |
| Formato | Cartaceo |
| Autore/i | G. Penneli;M. Totaro; M. Piotto |
| Affiliazioni autori | Dipartimento di Ingegneria della Informazione, Universita? di Pisa, Via G.Caruso, I-56122 Pisa, Italy. IEIIT - Pisa, CNR, Via G.Caruso, I-56122 Pisa, Italy. |
| Autori CNR e affiliazioni |
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| Lingua/e |
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| Abstract | Direct patterning of silicon dioxide by means of electron beam stimulated etching is shown, and a full characterization of exposure dose is presented. For its high dose, this technique is unsuitable for large areas but can be usefully employed like a precision scalpel for removing silicon dioxide by well-localized points. In this work, this technique is applied to the definition of windows through the oxide surrounding top down fabricated n-doped silicon nanowires. These windows will be employed for a selective doping of the nanowire by boron diffusion. In this way, pn junctions can be fabricated in welllocalized points in the longitudinal direction of the nanowire, and an electrical contact to the different junctions can be provided. Electrical I-V characteristics of a nanowire with pn longitudinal junctions are reported and discussed. |
| Lingua abstract | inglese |
| Altro abstract | - |
| Lingua altro abstract | - |
| Pagine da | 1096 |
| Pagine a | 1101 |
| Pagine totali | 6 |
| Rivista | Nano letters (Print) Attiva dal 2001 Editore: American Chemical Society, - Washington, DC Paese di pubblicazione: Stati Uniti d'America Lingua: inglese ISSN: 1530-6984 Titolo chiave: Nano letters (Print) Titolo proprio: Nano letters. (Print) Titolo abbreviato: Nano lett. (Print) |
| Numero volume della rivista | 12 |
| Fascicolo della rivista | 2 |
| DOI | 10.1021/nl2045183 |
| Verificato da referee | Sì: Internazionale |
| Stato della pubblicazione | - |
| Indicizzazione (in banche dati controllate) |
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| Parole chiave | silicon nanowires, selective doping, e-beam stimulated oxide etching, pn nanojunctions |
| Link (URL, URI) | - |
| Titolo parallelo | - |
| Data di accettazione | - |
| Note/Altre informazioni | - |
| Strutture CNR |
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| Moduli/Attività/Sottoprogetti CNR |
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| Progetti Europei | - |
| Allegati | Selective Doping of Silicon Nanowires by Means of Electron Beam Stimulated Oxide Etching (documento privato ) Tipo documento: "application/octet-stream" |
| Editore |
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