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P. Capezzuto1, G. Cicala2, V. Tassielli1 and G. Bruno2 (1989)
Plasma deposition of a-Si,Ge:H,F from a novel SiF4-GeH4-H2 mixture
in 9th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-9), Pugnochiuso (Italia), September 1989
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