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Bruno G., Capezzuto P., Cicala G. (1991)
Rf glow discharge of SiF4-H2 mixtures: Diagnostics and modeling of the a-Si plasma deposition process
in Journal of applied physics
"^^rdf:HTML ; pubblicazioni:autori "Bruno G., Capezzuto P., Cicala G."^^xsd:string ; pubblicazioni:paginaInizio "7256"^^xsd:string ; pubblicazioni:paginaFine "7566"^^xsd:string ; pubblicazioni:numeroVolume "69"^^xsd:string . @prefix ns11: . prodotto:ID226564 pubblicazioni:rivista ns11:ID289194 ; pubblicazioni:pagineTotali "11"^^xsd:string ; pubblicazioni:numeroFascicolo "10"^^xsd:string ; skos:note "ISI Web of Science (WOS)"^^xsd:string , "Scopu"^^xsd:string ; pubblicazioni:affiliazioni "Centro di Studio per la Chimica dei Plasmi, Dipartimento di Chimica, Universit\u00E0 di Bari, Via G. Amendola 173, 70126 Bari, Italy"^^xsd:string ; pubblicazioni:titolo "Rf glow discharge of SiF4-H2 mixtures: Diagnostics and modeling of the a-Si plasma deposition process"^^xsd:string ; prodottidellaricerca:abstract "Hydrogenated and fluorinated amorphous silicon films (a-Si:H,F) have been deposited in a\nparallel-plate rf plasma reactor fed with SiF4-H2 mixtures. The plasma phase\ncharacterization has been performed by optical emission spectroscopy for the analysis of the\nemitting species (SiF3*,SiF2*,SiF*,H*, and H2*), mass spectrometry for the analysis of\nstable species, and Langmuir electrical probes for the evaluation of electron density (ne) and\ntemperature (kTe). The deposition rate (rD) has been monitored by laser interferometer.\nThe effect of the rf power, gas composition, total pressure, and dopant ( B2H6, PH3) addition\non the plasma phase composition and on the film growth rate has been studied. The\ndata have been discussed on the basis of a chemical model where the chemisorption of SiF4\nand SiF2 and the subsequent interaction with H atoms are the determinant steps also\nfrom the kinetic point of view. It has been found that the rate equation rD proportional [H][SiF2] is able to fit the experimental results."@en ; prodottidellaricerca:prodottoDi istituto:CDS054 , modulo:ID2674 ; pubblicazioni:autoreCNR unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA29220 . @prefix parolechiave: . prodotto:ID226564 parolechiave:insiemeDiParoleChiave . ns11:ID289194 pubblicazioni:rivistaDi prodotto:ID226564 . parolechiave:insiemeDiParoleChiaveDi prodotto:ID226564 .