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Cinzia Caliendo *, Patrizia Imperatori **, Enrico Verona * (2000)
Optimization of the Sputtering Deposition Parameters of Highly Oriented Piezoelectric AlN films
in IEEE International Ultrasonics Symposium 2000, Puerto Rico, October 22-25, 2000
"^^rdf:HTML ; pubblicazioni:autori "Cinzia Caliendo *, Patrizia Imperatori **, Enrico Verona *"^^xsd:string ; pubblicazioni:paginaInizio "324"^^xsd:string ; pubblicazioni:paginaFine "324"^^xsd:string ; pubblicazioni:pagineTotali "1"^^xsd:string ; skos:note "Abstract"^^xsd:string ; pubblicazioni:affiliazioni "* Istituto di Acustica Corbino, IDAC\n** Istituto di Struttura della Materia, ISM"^^xsd:string ; pubblicazioni:titolo "Optimization of the Sputtering Deposition Parameters of Highly Oriented Piezoelectric AlN films"^^xsd:string ; prodottidellaricerca:abstract "A1N films have been succesfully\ndeposited by reactive sputtering technique on\nsilicon substrates with different interface layers.\nUniform, crack free, c-axis oriented, highly\nadhesive films have been obtained in a thickness\nrange between 1 and 5.6 pm. Measurements of\nthe d33 piezoelectric strain constant have been\nperformed in order to evaluate the piezoelectric\ncharacteristics of the films. X-ray diffraction\nmeasurements (XRD) have been performed to\ninvestigate the crystal structure and the\ncrystallographic orientation of the films, in order\nto optimize the deposition process parameters\nand to study the influence of the substrate on the\nAlN polycrystals orientation."@en . @prefix ns10: . prodotto:ID214785 pubblicazioni:editore ns10:ID321 ; prodottidellaricerca:prodottoDi istituto:CDS001 ; pubblicazioni:autoreCNR unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA9099 , unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA22343 , unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA29499 . ns10:ID321 pubblicazioni:editoreDi prodotto:ID214785 .