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Francoise Massines, Christian Sarra-Bournet, Fiorenza Fanelli,\nNicolas Naud\u00E9, Nicolas Gherardi (2012)
Atmospheric Pressure Low Temperature Direct Plasma Technology: Status and Challenges for Thin Film Deposition
in Plasma processes and polymers (Internet); Wiley-VCH Verlag Gmbh, Weinheim (Germania)
"^^rdf:HTML ; pubblicazioni:autori "Francoise Massines, Christian Sarra-Bournet, Fiorenza Fanelli,\nNicolas Naud\u00E9, Nicolas Gherardi"^^xsd:string ; pubblicazioni:paginaInizio "1041"^^xsd:string ; pubblicazioni:paginaFine "1073"^^xsd:string ; pubblicazioni:numeroVolume "9"^^xsd:string . @prefix ns11: . prodotto:ID193515 pubblicazioni:rivista ns11:ID88099 ; pubblicazioni:affiliazioni "PROMES, CNRS, Tecnosud, Rambla de la thermodynamique, 66100 Perpignan, France\nPhysics Department, Quantum Materials and Devices Infrastructure (QMDI), Universit\u00E9 de Sherbrooke, J1K 2R1 Qu\u00E9bec, Canada\nCNR - Institute of Inorganic Methodologies and Plasmas (IMIP), c/o Department of Chemistry, University of Bari Aldo Moro-via Orabona 4, 70126 Bari, Italy\nUniversit\u00E9 de Toulouse, UPS, INPT, LAPLACE - Laboratoire Plasma et Conversion d'Energie, 118 route de Narbonne, 31062 Toulouse Cedex 9, France\nCNRS, LAPLACE, 31062 Toulouse, France"^^xsd:string ; pubblicazioni:titolo "Atmospheric Pressure Low Temperature Direct Plasma Technology: Status and Challenges for Thin Film Deposition"^^xsd:string ; prodottidellaricerca:abstract "Over the last ten years, expansion of atmospheric pressure plasma solutions for surface treatment of materials has been remarkable, however direct plasma technology for thin film deposition needs still great effort. The objective of this paper is to establish the state of the art on scientific and technologic locks, which have to be opened to consider direct atmospheric pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition (AP-PECVD) a viable option for industrial application. Basic scientific principles to understand and optimize an AP-PECVD process are summarized. Laboratory reactor configurations are reviewed. Reference points for the design and use of AP-PECVD reactors according to the desired thin film properties are given. Finally, solutions to avoid powder formation and to increase the thin film growth rate are discussed."@en . @prefix ns12: . prodotto:ID193515 pubblicazioni:editore ns12:ID11597 ; prodottidellaricerca:prodottoDi modulo:ID2672 , istituto:CDS054 ; pubblicazioni:autoreCNR unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA14484 . ns12:ID11597 pubblicazioni:editoreDi prodotto:ID193515 . ns11:ID88099 pubblicazioni:rivistaDi prodotto:ID193515 .