@prefix pubblicazioni: . @prefix unitaDiPersonaleInterno: . @prefix prodotto: . unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA9723 pubblicazioni:autoreCNRDi prodotto:ID144877 . unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA1739 pubblicazioni:autoreCNRDi prodotto:ID144877 . @prefix prodottidellaricerca: . @prefix istituto: . istituto:CDS052 prodottidellaricerca:prodotto prodotto:ID144877 . unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA5138 pubblicazioni:autoreCNRDi prodotto:ID144877 . unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA6183 pubblicazioni:autoreCNRDi prodotto:ID144877 . @prefix unitaDiPersonaleEsterno: . unitaDiPersonaleEsterno:ID8694 pubblicazioni:autoreCNRDi prodotto:ID144877 . @prefix modulo: . modulo:ID6131 prodottidellaricerca:prodotto prodotto:ID144877 . unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA11294 pubblicazioni:autoreCNRDi prodotto:ID144877 . @prefix rdf: . @prefix retescientifica: . prodotto:ID144877 rdf:type retescientifica:ProdottoDellaRicerca , prodotto:TIPO1601 . @prefix brevetti: . prodotto:ID144877 rdf:type brevetti:Brevetto . @prefix rdfs: . prodotto:ID144877 rdfs:label "Metodo e apparecchiatura di realizzazione di film sottili su un substrato tramite processo di deposizione a elettroni pulsati (Brevetto)"@en . @prefix xsd: . prodotto:ID144877 pubblicazioni:anno "2008-01-01T00:00:00+01:00"^^xsd:gYear . @prefix skos: . prodotto:ID144877 skos:altLabel "
Bissoli F.; Ferrari C.; Gilioli E.; Mazzer M.; Pattini F.; Rampino S. (2008)
Metodo e apparecchiatura di realizzazione di film sottili su un substrato tramite processo di deposizione a elettroni pulsati
MI2008A002090
"^^rdf:HTML ; brevetti:titolo "Metodo e apparecchiatura di realizzazione di film sottili su un substrato tramite processo di deposizione a elettroni pulsati"^^xsd:string ; pubblicazioni:autori "Bissoli F.; Ferrari C.; Gilioli E.; Mazzer M.; Pattini F.; Rampino S."^^xsd:string ; brevetti:numeroBrevetto "MI2008A002090"^^xsd:string ; pubblicazioni:note "Patent n. MI2008A002090. Registered in Milano on 2008."^^xsd:string ; pubblicazioni:descrizioneSinteticaDelProdotto "A method is proposed to determine with a great accuracy the amount of material deposited after a pulsed electron beam in vacuum"^^xsd:string ; brevetti:annoDiDeposito "2008"^^xsd:string ; pubblicazioni:affiliazioni "CNR-IMEM, Parma"^^xsd:string ; pubblicazioni:titolo "Metodo e apparecchiatura di realizzazione di film sottili su un substrato tramite processo di deposizione a elettroni pulsati"^^xsd:string ; prodottidellaricerca:prodottoDi modulo:ID6131 , istituto:CDS052 ; pubblicazioni:autoreCNR unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA1739 , unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA11294 , unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA6183 , unitaDiPersonaleEsterno:ID8694 , unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA5138 , unitaDiPersonaleInterno:MATRICOLA9723 . @prefix parolechiave: . prodotto:ID144877 parolechiave:insiemeDiParoleChiave . parolechiave:insiemeDiParoleChiaveDi prodotto:ID144877 .